TSMC开始出货使用EUV技术的7nm+製程6nm明年上

台积电（TSMC）今天宣布，其业界首个商用的极紫外（EUV）光刻技术，其7nm Plus（N7 +）正向市场交付客户产品。採用EUV技术的N7+製程採用台积电成功的7nm製程。

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2019-10-8 11:45 上传

N7+的量产是有记录以来最快的之一。N7+于2019年第二季开始量产，其产量将与最初的N7製程（已超过一年的产量）相近。N7+提供了改进的整体性能。与N7製程相比，N7+的密度提高了15％至20％，并降低了功耗，这将使其成为行业下一波产品越来越受欢迎的选择。

採用其成功的经验，N7+为未来的先进製程技术奠定了基础。台积电将在2020年第一季将N6技术投入风险生产，并在年底之前实现量产。随着EUV的进一步应用，N6的逻辑密度将比N7高18％，并且与N7完全相容的设计规则使客户可以大大缩短产品上市时间。

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