Intel没有EUV我们也懂得如何用7nm製造晶片

今年的旧金山IDF会议上，Intel谈论最多的是Broadwell和Skylake处理器，这两代都是14nm製程的，再往后就是10nm以及7nm了，这两种製程还在研究、探索中，他们需要更高级的製造设备，EUV（极紫外光光刻设备）就是关键之一，不过EUV现在还不成熟，Intel表示就算没有EUV设备，他们也懂得如何用10nm、7nm製造未来的晶片。

10nm7nmrd.png(296.38KB,下载次数:2)

2014-9-1220:17上传

Intel理事MarkBohr在回答製程相关的问题时表示，他的日常工作​​之一就是研究在没有EUV光刻的情况下如何製造7nm晶片。对于EUV光刻这种核心设备，乐观的看法也是10年内也不一定能升级，Intel在10nm节点不会使用EUV製程，7nm节点也不一定会，不过这时候还是有点希望的。Bohr表示他对EUV很感兴趣，它可以帮助厂商提高产能，而且可能简化製程，不幸的是EUV还没有準备好，生产能力及可靠性都没有达标。
至于如何在没有EUV的情况下製造10nm及7nm晶片，Intel就没有透露太多了，不过在14nm上，Intel已经使用了三重曝光（triplepatterning）了。

标签：

免责声明：本文为转载，非本网原创内容，不代表本网观点。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实，对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺，请读者仅作参考，并请自行核实相关内容。