光刻工艺和设备（光刻工艺）

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1、用于大规模集成电路生产的主流光刻技术仍是光学光刻技术，下一代光刻技术的主要候选者是极紫外光刻技术、纳米压印技术和无掩模光刻技术。

2、 极紫外光刻技术

3、极紫外光刻技术一直是最受关注且最有可能达到量产化要求的光刻技术。极紫外光刻技术使用波长为13．5 nm的极紫外光，几乎所有的材料对这个波段的光都是强吸收的，因此极紫外光刻技术只能采用反射投影光学系统。

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